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SiC Crystal Growth Mea Mata

SiC Crystal Growth Mea Mata

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SiC tioata tuputupu ae mea mata
SiC tioata tuputupu ae mea mata

SiC tioata tuputupu ae mea mata


Nofoaga o le Amataga: ōmea
Igoa Brand: Semixlab
Numera faataitaiga: CVD SiC
Tusi Faamaonia: ISO 9001
Lafoga Faʻatonu Aupito Manaomia: Ni nai kilokalama (lagolago le R & D tulaga fa'atauga laiti vaega)
tau: Fa'asinomaga upusii i fa'amatalaga lagolago maualuga mama (≥99.9999%) poloaiga
Faʻamatalaga: Fa'amau fa'amaufa'ailoga kasa le mama maualuga, fa'amau-fa'asusu ma fa'ama'i fa'ama'i alumini taga pepa alumini
Taimi Faaooina atu: 7-15 aso (tulaga masani) / 20-30 aso (fa'asologa masani)
Tuutuuga totogi: T/T (50% muamua, 50% a'o le'i tu'uina atu)
Gafatia Tuuina atu: Gaosi masina 500kg, lagolagoina le mama maualuga (≥99.9999%) poloaiga
faʻamatalaga

SiC tioata tuputupu aʻe mea mataʻutia o mea sili ona lata mai na atiaʻe e Semixlab. Ole vaega autu ole poloka CVD SiC. O le tulaga lelei o le SiC tioata tasi e tupu aʻe e lenei mea mataʻutia e sili ona lelei ma o loʻo i ai le tulaga maualuga i le alamanuia.

O oloa autu susulu

Fa'agasologa o sauniuniga fa'aletonu

Fa'aaogāina o pateni tuto'atasi le fa'aogaina o tekonolosi CVD (patent Nu. : ZL2024XXXXXXX), methyl trichlorosilane (MTS) e fai ma fa'amuamua, e ausia ai:

Mama> 99.9995% (GDMS su'esu'ega elemene atoa)

Nitrogen content ≤0.09ppm (leai se fa'amamāina fa'aopoopo)

Lapopo'a 4-10mm (auala fa'asalalauina e le tagata lava ia <2.5mm)

Fa'amanuiaga tuputupu a'e tioata

limatusi auala masani fa'asalalauina a le tagata lava ia SiC pa'u Semixlab SiC tioata tuputupu ae mea mata
Ole tele ole microtubules e eseese 103~ 104cm-2 <300 cm-2
Ole fua ole fa'aogaina o mea mata 30% -40% > 50%

Puipuiga o le siosiomaga ma le tamaoaiga

E leai ni fa'aleagaga fa'aleaga: hydrochloric acid e mafai ona fa'au'u i le masima

Fa'aitiitiga tau o le 30% : mea mata methyltrichlorosilane o le vailaʻau sili a Saina

SiC tioata fa'atupuina fa'aoga SiC tioata tuputupu a'e mea mata

Faʻamatalaga Faʻamatalaga:

1. Isi igoa: CVD SiC poloka; SiC vaega.

2. Fa'aoga: Mea mata'utia mo le tuputupu a'e tioata tasi SiC.

3. Fa'asologa autu: Mama> 99.9995% (GDMS su'esu'ega elemene atoa), Nitrogen anotusi ≤0.09ppm (leai se fa'amamāina fa'aopoopo), Lapo'a lapo'a 4-10mm (auala fa'asalalauina masani <2.5mm).

auiliili

talosaga

Mea mata mo le tuputupu ae tioata tasi SiC.

Faʻamanuiaga Faʻamasino

1. O se manuia i le mama

Mama ≥99.9995% (GDMS suʻesuʻega elemene atoa). Nitrogen anotusi ≤0.09ppm na ausia e ala i vailaʻau faʻamama ausa (leai se faʻamamaina lona lua). Aemaise lava talafeagai mo semi-insulating SiC manaoga tuputupu ae tioata tasi.

2. Lapopo'a ma le fa'atumauina o le mamafa

Lapopo'a lapopo'a (4-10mm), fa'aleleia atili le gafatia o le utaina o le crucpot (sili atu i le 1.5kg mo le voluma tutusa), fa'aitiitia le fa'aletonu o le carbon encapsulation i le tuputupu a'e tioata.

3. O le tau fa'amanuiaga e taua tele

Fa'aitiitia le tau o meafaitino i le 30%.

O le fa'aaogaina o le methyltrichlorosilane (MTS) e fai ma fa'ata'ita'iga, o le tau o le fa'atauina o meafaitino e na'o le 1/3 o le fa'ata'ita'iga masani silica fume + graphite. Fa'aaogā mea mata'utia fua faatatau > 50% (fa'agasolo masani na'o le 30%-40%).

4. Puipuiga o le si'osi'omaga faiga tapuni tapuni

E leai se fa'aleaga.

Hydrochloric acid, o le mea e maua mai i le gaosiga, e maua ai masima le afaina e ala i le neutralization tali, aloese atoa mai faafitauli e tolu o otaota o togafitiga o faiga masani (pickling / otaota kesi tau togafitiga e sili atu i le 15%).

5. E oso le tulaga lelei tioata

Ole tele ole microtubules e <300 cm-2.

O le Si / C atom ratio o mea mataʻutia e latalata ile 1: 1 (faʻasesega auala masani> 5%), faʻaitiitia ai le faʻaogaina o le faʻamaʻi faʻamaʻi i le taimi o le tuputupu aʻe tioata. Ingot fua o le 85% -92% (65% -75% o oloa faatauva), faʻaitiitia ai le gau o le faʻatauina tioata tasi o tagata faʻatau i lalo.

fesili

Tulaga vevela