Faatasi ai ma le tele o mea kaponi, o le pyrolytic graphite o loʻo tu i fafo mo lona fausaga faʻapipiʻi sili ona pulea ma le anisotropy ogaoga. E le pei o le graphite masani, o le pyrolytic graphite e le maua saʻo mai minerale. Nai lo lena, e gaosia e ala i le maualuga o le vevela o le vailaʻau vailaʻau (CVD), lea e faʻaleagaina ai kasa hydrocarbon ma teuina i totonu o faʻavae o carbon atoms i le vevela i luga aʻe o le 2000 ° C, e maua ai se fausaga graphite e sili ona lelei ma sili ona mama. O lenei auala sa'o le fa'atonuina o sauniuniga e mafai ai ona fa'aalia uiga fa'alagolago i le fa'atonuga i mea taua e pei o le fa'avevela vevela, fa'aulu eletise, ma le tali fa'amaneta, uiga e le fa'atusalia e le graphite fa'anatura.

I. O le a le Pyrolytic Graphite?

Pyrolytic graphite o se mea e sili ona fa'atatau i le kaponi ua saunia e ala i se fa'agasologa o le ausa pyrolytic maualuga (CVD). E masani ona fa'aogaina kasa hydrocarbon (pei o le methane) e fa'apala ma fa'aputu ai kaponi kaponi i lalo o le vevela maualuga (masani> 2000℃) ma tulaga maualalo. O nei atoms o loʻo tuʻuina atu i le vevela maualuga e faʻamautinoa ai se faʻatonuga maualuga o le carbon layers, e mafua ai se fausaga graphite ma le maualuga maualuga.

II. Tulaga lelei o le Pyrolytic Graphite (PG) i Semiconductor Processes

1. Fa'apipi'i Ion:

I le fa'agasologa o le fa'apipi'iina o ion, o le PG e fa'aaoga muamua e gaosia ai faitoto'a maualuga-sa'o (grids) ma electrodes.

●Ion Implantation Resistance: Ion beams e matua maualuga le malosi. Molybdenum (Mo) poʻo le tungsten (W) faitotoʻa masani o le a oʻo i le faʻaogaina o le tino i lalo o le faʻatupuina o le ion. E le gata e mafua ai ona manifinifi ma fa'aletonu le faitoto'a, ae avea fo'i atomu u'amea matala ma fa'apogai tuga o le fa'aleagaina. O le PG o lo'o fa'aalia le malosi tele o le tete'e atu i le pala (matua maualalo le fua o le etch), ma o lona olaga e masani lava fa'atele nai lo vaega u'amea.

● Faʻaleleia le Saʻo o le Beam i le taimi nei: Talu ai o le PG e faʻafefeteina, o le lapoʻa o le faitotoa e mafai ona faʻamautu mo se vaitaimi umi. O lenei mea e faʻamautinoa ai o le taulaʻi ma le tulimanu o le ion e tumau pea i luga o se vaitaimi umi, lea e taua tele mo faʻagasologa alualu i luma (e pei o le 7nm ma le 5nm) lea e matua maualuga ai le maualuga o le faʻaogaina o le tulimanu.

● Pulea Fa'avevela Lelei: Fa'aaogāina o le fa'avevelaina o le vevela o le PG i totonu o le va'alele (pe tusa ma le 4-5 taimi o le 'apamemea), e mafai ona fa'amama fa'avave le vevela e fa'aosoina e le pomu ion i luga o le va'alele, e puipuia ai le vevela ma le deformation.

2. MOCVD ma le Epitaxy: Fa'aaoga muamua mo le fa'apipi'i

I le gaosiga o le LED (GaN process) poʻo le silicon epitaxial process, o le mea e masani ona faʻaaogaina graphite substrate (Susceptor) e le o le uluai graphite i luga o lona luga, ae masani ona ufiufi i se vaega mafiafia o le PG poʻo le SiC.

●Sealer: E ui ina mafiafia le graphite oomiina isostatically, ae o loʻo faʻapipiʻi le microscopically porous, faigofie faʻafefeteina kasa ma faʻasaʻolotoina vaega poʻo le mama i le vevela maualuga. O le PG coating, teuina e ala i le CVD, ausia se density latalata i le theoretical density, faʻamaufaʻailogaina atoa le graphite matrix, puipuia graphite particles mai le pa'ū ma faʻaleagaina le wafer, ma poloka ai foi le tuʻuina atu o kasa le mama mai totonu o le graphite.

●Fa'a'ele'ele Fa'agata: O le fa'agasologa o le MOCVD e fa'aaogaina ai le tele o ammonia (NH3) ma fa'apogai uamea-organic, lea e matua'i pala. O le PG layer e matua'i gaogao, puipuia lelei le mea'ai graphite totonu mai le pala.

●Blackbody Radiation ma le Temperature Uniformity: PG o loʻo i ai uiga lelei faʻavevela o le tino uliuli, e fesoasoani i le saʻo o le thermometry infrared. E fesoasoani fo'i lona fa'auluuluina o le vevela e fa'amautinoaina le maualuga o le vevela o le mea'ai, e fa'atatau tonu i le mafiafia ma le tu'ufa'atasiga o le epitaxial layer.

3. Fa'avevela vevela maualuga:

PBN/PG fa'avevela fa'afefiloi e masani ona maua i potu PVD po'o CVD e matua'i maualuga mana'omia le mama. O nei fa'avevela e le fa'aogaina uaea u'amea fa'aleaganu'u ae fa'aaoga le PG e fai ma fa'avevela fa'avevela.

●Ultra-Clean Heating Element: O mea faʻavevela uʻamea e faigofie ona faʻafefeina mea leaga uamea ile vevela maualuga. Pyrolytic Graphite lava ia o le carbon, ma le mama e sili atu i le 99.999%. E tusa lava pe faʻaalia le tele o le faʻafefe, o le carbon o se elemene "faauo" i faiga semiconductor (faʻatusatusa i auro, kopa, uʻamea, ma isi), faʻaitiitia ai le lamatiaga o le faʻaleagaina o uʻamea.

●Ultra-Fast Response: O mea fa'avevela PG e la'ititi lava le malosi o le vevela, e mafua ai le fa'avevela ma le fa'amalieina vave (tali vevela). E sili ona lelei lenei mea mo faiga e mana'omia ai le uila vave vevela (RTP), fa'aleleia atili le gaosiga.

●Customized Temperature Field: E ala i le fuafuaina o le ala matagaluega (serpentine wiring) o le PG layer, e mafai ona saʻo le tufatufaina o fanua vevela e tauia mo le leiloa vevela i pito o le lua, ausia maualuga maualuga wafer vevela uniformity.

4. Plasma Etch: "Low-loss" Electrodes

I le etching mago, aemaise lava i siosiomaga sili ona pala e aofia ai kasa fluorine-po o chlorine.

●Suiga mo Consumables: Aʻo faʻaaogaina foʻi le silikoni tasi-crystal poʻo le SiC e pei o ni eletise, i nisi o faiga faʻapitoa, mama taulaʻi poʻo ipu eletise e faia i le PG, ona o lo latou mamafa ma le faʻamaʻiina o vailaʻau, e mafai ona faʻaitiitia ai le toe sui ma faʻaititia le Tau o le Pule (CoO).

III. Fa'aaogāina ole Pyrolytic Graphite ile Semiconductor Processes

Ona o lona mama maualuga, maualuga-maualuga mautu, matua maualalo le gas permeability, conductivity vevela sili ona lelei, ma le mafai ona pulea anisotropy, pyrolytic graphite (PG) ua avea ma se mea e taua tele carbon-faavae i masini semiconductor. I le tele o siosiomaga faiga taua (maualuga vevela, gaogao, plasma, kasa corrosive), faʻatusatusa i metala poʻo ceramics, PG ofoina atu tulaga mautu ma maualalo contamination lamatia, ma o lea e masani ona faʻaaogaina i masini semiconductor wafer gaosiga ma vaega consumable.

1. Talosaga ile CVD/PECVD/MOCVD Meafaigaluega

①Fa'asa'o Fa'avevela ma Vaega Fa'atasi Fa'atasi

Pyrolytic Graphite (PG) e mafai ona faʻaaogaina e fai ma mea vevela vevela maualuga poʻo mea faʻapipiʻi.

●Susceptor i MOCVD epitaxial tuputupu aʻe potu tali

●Vaega lagolago elemene faʻavevela i ogaumu CVD maualuga-vevela

②Susceptor Coating Substrate

Ole tele ole MOCVD ole fa'aogaina ole SiC-coated Pyrolytic Graphite.

Tulaga lelei o le Pyrolytic Graphite:

●Low gas permeability, faʻamautinoa le mautu o le ufiufi SiC

● Leai se deformation i le maualuga o le vevela, faʻamautu le tufatufaina o le vevela o le wafer

●Mamafa, faʻaitiitia le inertia o faiga faʻasolosolo

Pyrolytic Graphite Coated Crucible

2. Talosaga i Meafaigaluega Etching

Lisi o le lua ma sone fa'afoliga vaega fa'avae

O le Pyrolytic Graphite o loʻo faʻaalia ai le malosi o le pala ma le maualuga o le vevela i totonu o siosiomaga plasma, ma faʻamaonia ai e avea o se mea faʻapipiʻi potu tali poʻo mea faʻaaogaina:

●RIE, ICP vaega potu tali

●Plasma baffles, reflectors

●Electrode backplate po'o vaega fa'amama (fa'alagolago ile mamanu)

3. Fa'aoga i le Su'ega Maualuga ma Togafitiga vevela

Pyrolytic graphite o se vaega autu o mea i le tele o ogaumu vevela vevela vevela (> 1000 ° C), e aofia ai:

●Rapid Thermal Processing (RTP)

●Silicon Carbide (SiC) Ogaumu Epitaxial

●Ogaumu Fa'asu'i-Maulalo

●Kraphite Vaa ma mea fa'apipi'i

4. Talosaga i Wafer Loading/Transfer ma Fixtures

PG, ona o le maualuga o le mama ma le maualalo o le paʻu faʻaleagaina, e faʻaaogaina lautele i vaega nei:

●Wafer Susceptor

●Wafer Carrier/vaa

●Tagi Mama

● Fa'a'au'au Fa'a'au'au Gas

O le PG e fetaui lelei mo le faʻapipiʻiina o mea faʻapipiʻi i le epitaxy vevela maualuga poʻo siosiomaga faʻafefe.

5. Talosaga i Ion Implantation

Pyrolytic Graphite e faʻaaogaina e pei o:

●Toe ave

●Collimator

●Ion absorption vaega maualuga-malosi

6. Talosaga talafeagai i Lithography Systems

E ui lava e le masani ona faʻaaogaina tuusaʻo e pei o vaega faʻapitoa, e faʻaaogaina foi le Pyrolytic Graphite i:

●Malei-maua'i-maualalo malamalama mailei

● Fa'atonuga fa'avevela mo faiga fa'apitoa

Ona o le sili ona lelei o le blackbody absorption uiga, e mafai ona taofiofia lelei le malamalama sese.