Va'a Wafer SiC Mama Maualuga
I faiga autū o le gaosiga o semiconductor—e pei o le oxidation, diffusion, ma le LPCVD—o le malosi o le fausaga ma le mama o meafaitino o wafer carriers e fuafua tonu ai le fua o le seleselega. O le va'a silicon carbide (SiC) na atia'e e Semixlab, e lagolagoina e itu lelei e lua o le malosi maualuga, sintered silicon carbide (S-SiC) substrate ma le ufi mafiafia o le CVD SiC, ua foia atoatoa ai le fa'afitauli o le fa'aleagaina o vaega i faiga masani. E o'o lava i siosiomaga ogaoga e o'o atu i le 1600°C, o lenei va'a e tausia lelei le mautu fa'aletino, fa'atasi ai ma le tumau ma le ola tautua e sili atu nai lo o quartz po'o graphite carriers, ma avea ai ma filifiliga sili ona lelei mo faiga gaosiga e maualuga le fa'atuatuaina. O lo'o tulimatai atu i lau fesili fa'aopoopo.
faʻamatalaga

Fofo Fa'aleleia Atili mo le Fa'aaogaina o le 4-12 Inisi
Aiseā ua Suia ai e Kamupani Ta'uta'ua ia Va'a mai le Quartz i Va'a SiC?
E sili atu nai lo le kuata e masani ona pa'ū i le 1150∘C ona o le devitrification, o a matou va'a SiC e tausia le sa'o atoatoa o le geometric i lalo o le mamafa tele o le vevela. Fa'afetai i lona maualuga o le mafiafia, o le CVD SiC matrix e taofia ai le fa'asolo o vaega i ona ala. Ua fausia fa'apitoa e taulimaina ai mana'oga 'zero-excursion' o faiga fa'avae o le sub-micron i aso nei.
E sili atu le lelei o le taulimaina e a matou vaega o le fa'amamāina malosi o le HF/HNO3 nai lo le kuata, e umi se taimi e tumau ai ma fa'aitiitia ai tau o le suiina. Fa'atasi ai ma le pulega fa'avevela sili ona lelei mo le fa'avevela vave ma tutusa, latou te tu'uina atu le mautu o le fa'agasologa e mana'omia mo wafers e 4-inisi i le 12-inisi i le gaosiga tele.
Malamalamaga Faapitoa
E le pei o va'a masani e faia i le graphite e fa'alagolago tele i vali i luga o le fogāeleele, o le fausaga monolithic SiC-on-SiC a le Semixlab e ave'esea ai le "lē fetaui" o le fausaga i le va o le substrate ma le pa'u. I le tu'ufa'atasia o le expansion coefficients i le iunite atoa, ua matou foia ai le fa'afitauli tumau o le pisinisi o le delamination. Mo ie tetele e 8-inisi ma le 12-inisi, e le na'o se fa'aleleia atili o meafaitino lenei—o se suiga tele o le TCO. Faatasi ai ma se olaga tautua e 5x e sili atu nai lo le quartz masani, o a matou va'a SiC malolosi e liua ai se tau fa'aalu i se aseta gaosiga mo se taimi umi.
auiliili
Fa'amatalaga Fa'apitoa & Fa'asinomaga
E mafai ona matou fetu'una'i mea uma e fetaui ma le fa'atulagaga fa'apitoa o lau ogaumu—pe fa'alava pe fa'atūsa'o—ma fetu'una'i i ou mana'oga tonu e taulima ai le uafe.
| fōliga | Specification |
| Mea fa'avae | Sintered Silicon Carbide (S-SiC) |
| Togafitiga luga | Ufiufi CVD SiC (Fa'aputuga o le Ausa Kemikolo) |
| -O le mafiafia | 50μm – 300μm (E mafai ona Fa'atulagaina Atoa) |
| Tulaga mama | 7N (Aofa'i o Mea Leaga < 0.1 ppm) |
| Fegalegaleaiga o le Wafer | 4 inisi, 6 inisi, 8 inisi, 12 inisi |
| Mautu Malosi | Malu e oo atu i le 1600°C i le ea gaogao/le gaoioi |
| talosaga | Fa'a'okesaita, Fa'asalalauina, LPCVD, Fa'a'anene, RTP |
talosaga
Talosaga masani
O a matou va'a SiC ua fausia mo tulaga sili ona faigata o le gaosiga. E tumau lelei lava lo latou foliga i le taimi o le Si/SiC Epitaxy e ui lava i le fa'a'ofuina o le H2, ma o lo latou mama maualuga e fa'asaoina ai le ola mo faiga o le Diffusion lea e lamatia ai le fa'aleagaina. Mo le ALD ma le LPCVD, latou te galulue o se mea e fa'amautu ai le vevela e fa'amautinoa ai o lo'o fa'aputu tutusa le ata tifaga i luga o wafers uma.
Faʻamanuiaga Faʻamasino

Ata o le faiga CVD mo le ufiufiina o le SiC Boat, ma ia mautinoa le mama o le 7N ma le mafiafia tutusa
1) 7N Mama Tele-Maualuga (CVD Encapsulation) Nai lo le ufiufi masani, matou te faʻaaogaina se CVD SiC encapsulation maualuga-mafiafia e loka ai le mama lautele o le 99.99999%. Mo masini eletise maualuga-voltage e pei o IGBTs ma MOSFETs, e le o se filifiliga lea—o le pau lea o le auala e taofia ai mea leaga uʻamea (Fe, Ni, Cu) mai le faʻaosofia o tafega matautia.
2) Fa'ata'ita'iga o le Slot ua Fa'ainisinia ma le Sa'o Matou te le faia le "tasi le lapo'a e fetaui mo tagata uma." Pe e te mana'omia se V-groove masani pe se U-slot fa'apitoa mo le taulimaina o le wafer manifinifi ma vaivai, o a matou CNC center e taofia le fa'atagaina i le ±0.05mm. O lenei sa'o tele e fa'aumatia ai le gatete o le wafer i le puna ma fa'aitiitia ai le mamafa o le pito i le taimi o fesiitaiga fa'arobotika saoasaoa maualuga.
3) Fa'aleleia Atili o le Ta'amilosaga o Tiute ma le Fa'afetauiina o le CTE O le fa'aletonu tele i va'a ua ufiufiina o le delamination. Ua matou foia lenei mea e ala i le fetu'una'i o le malosi o le pipii o le ufiufi ina ia atagia lelei ai le Coefficient of Thermal Expansion (CTE) o le substrate. O le i'uga? O se va'a e sao mai le ta'amilosaga faifai pea o le vevela i ogaumu Oxidation ma Diffusion e aunoa ma le malepelepe pe sae ese o le ufiufi mai le mea autu.
tatou Auaunaga

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